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****点击查看2025年8月(第10批)政府采购意向公告
为便****点击查看政府采购信息，根据《****点击查看财政厅****点击查看政府采购意向公开工作的通知》等有关规定，现将****点击查看2025年8月(第10批)政府采购意向公告如下：
| 1 | 微纳加工系统 | 1、紫外纳米压印机：用于高精度微纳元件的制造。 2、磁流变抛光机：通过高速离子束撞击光学元件表面，实现元件表面的分子、原子级材料去除，实现面形超高精度修抛，能够实现对球面、平面、非球面、自由曲面等光学表面RMS1/100λ(λ=632.8nm)以上精度的面形修抛，包含硬件及工艺软件；质保期不少于一年并提供后续的培训及软件更新。 3、机械臂抛光设备：通过机械臂带动抛光头按照规划路径进行化学物理抛光，实现平面、球面、非球面、自由曲面等光学面形的粗抛光及精抛光，达到面形精度RMS 1/80λ(λ=632.8nm), 表面粗糙度优于Ra1nm，包含硬件及工艺软件；质保期不少于一年并提供后续的培训及软件更新。 4、光学定心车床：对光学元件进行高精度光学定心后，通过车削元件外框，实现外框的外圆与光学元件光轴的高度**，**度要求达到5um，包含硬件及工艺软件；质保期不少于一年并提供后续的培训及软件更新。 | 602 | ****点击查看 | 否 | 否 | |
| 2 | 光刻系统 | 1、国产半自动高精度双面对准紫外光刻机：用于高精度对准光刻、灰度光刻的微纳加工设备，光刻特征线宽优于0.5微米，加工面积大于100mm×100mm。 2、超快激光精密测量系统：支持对超快激光的时域特性(脉宽、啁啾、脉冲形态)、空域特性(光束质量、光斑分布)、频域特性(光谱带宽、中心波长)及热域特性等进行综合测量，为超快光学研究提供完整的数据支撑；提供全面的安装调试和操作培训，能快速响应并在规定时间内解决故障。 3、高精度3D无掩膜光刻设备：用于亚微米特征尺寸微纳结构图案的无掩膜光刻制备。 4、射频离子源：专门制作全息离子束刻蚀光栅的设备。同时，射频离子源相比其他离子源（如考夫曼离子源），具有更好的束流均匀性和准直性，可以使用更多的反应气体，特别是可以使用氧气进行光刻胶的灰化处理。 5、直流中和射频离子源：在射频离子源功能基础上，直流中和射频离子源具有更大宽度均匀区，通过扫描刻蚀可以实现大面积刻蚀。 | 631 | ****点击查看 | 否 | 否 |
本次公开的****点击查看政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
****点击查看
2025年08月20日
1 **省
基本情况
上次中标企业: 江苏****公司
潜在竞争对手: 共
60
个, 其中与甲方合作关系紧密的
16 家
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